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INTEL FAB 68 신규 CVD공정 Plasma Wet Scrubber 첫 출하식
당사는 작년 6월에 INTEL FAB 68 ETCH 공정에 무폐수 플라즈마 스크러버(WFPS)를 처음으로 출하한 데 이어, 2022년 7월 15일 FAB 68의 신규 CVD 공정에 PLASMA Wet Scrubber 를 첫 출하하게 되어 이를 기념하기 위해 출하식을 가졌습니다. 안정적인 품질과 최고의 서비스로 국내는...
- Plasma Dry Scrubber
- Plasma 와 촉매를 이용한 폐수 발생 없는 처리장치
- 친 환경적 대용량 가스 처리 장치
강력한 Plasma를 이용한 높은 PFCs 가스 분해 효율
저 전력 고 효율의 처리 장치
폐수가 발생하지 않는 친환경 Solution
경제적인 운영 비용
- Trap
- 물성 변화를 통한 파우더 형성 및 포집 장치
- 공정 Gas에 의한 Pump Trip 방지
Pump Lifetime 증대
Back Stream에 의한 Chamber 오염 방지
Wafer 생산량 증대
Heating Jacket 제거 및 Pipe Coating 제거로 비용 절감 가능
배관 막힘 방지 효과
- Plasma Scrubber
- 3000℃ 이상의 고온의 Arc Plasma를 이용한 가연성, 독성, PFCs 가스 처리 장치
- 저 전력 고 효율의 Thermal Plasma technology 접목
완벽한 PFCs Gas 처리 능력
Fog 및 E.P를 도입한 탁원한 By-Product Control
Long Torch Lifetime 구현
부식 방지를 위한 특수 재질 및 코팅 채용
- Hybrid Scrubber
- MOCVD 공정을 위한 대량의 H2 및 NH3등 가연성 가스 처리 장치
- 폭발 위험 없는 안정적 운영
직접 연소와 간접 연소를 접목한 Hybrid Technology
완전 연소 구현으로 폐수 발생 없음
완벽한 T/N Control solution
저렴한 운영 비용
- Thermal Scrubber
- Semi / PV / LCD / LED와 같은 범 적용성 공정용 장비
- 고장 없는 안정적 운영
고 효율의 Cartridige type Heater 적용
간편한 교체 및 유지 보수
Powder Trouble 방지 특화 디자인
저렴한 운영비용
- Burner Scrubber
- LNG를 이용한 폐 가스 처리 장치
- 안정적인 화염 유지
1300℃ 이상의 화염을 통한 탁월한 Gas 처리 능력
Gas 누출 및 화염 감지를 통한 운영 안정성 확보
부식 방지를 위한 특화 재질 및 코팅 접목
- Dry Scrubber
- 흡착제의 화학적 반응을 이용한 가스 처리 장치
- 탁월한 유해 가스 처리 능력
저렴한 운영 비용
흡착제 교체 및 유지 보수 용이
안정적인 운영
폐수 발생 없음
Self-Backup System
- Wet Scrubber
- NH3, Cl2, F2, HCl, HF와 같은 수용성 가스 처리장치
- 집중적 물 분사를 통한 수용 효율 극대화
부식 방지 재질 적용
별도의 부품 소모가 없는 저렴한 운영
- 제17기 결산공고2022.03.25
- 제17기 사업보고서 공지의 건2022.03.16
- 제17기 감사보고서 공지의 건2022.03.16
- 제17기 정기주주총회 소집통지(공고)2022.02.24
- 주식 명의개서 정지 공고2021.12.13
- 지앤비에스엔지니어링 내부정보관리 규정2021.12.08
